本公司董事会及全体董事保证本公告内容不存在任何虚假记载、误导性陈述或者重大遗漏,并对其内容的真实性、准确性和完整性依法承担法律责任。 重要内容提示 ● 近日,华海清科股份有限公司(以下简称“公司”)第1,000台CMP装备正式出机并发往国内集成电路龙头企业,充分彰显公司产品与技术实力获得行业高度认可,进一步巩固了公司在国产CMP装备领域的龙头地位,持续体现国产高端半导体装备自主可控能力稳步提升。 ● 公司CMP装备在出厂前均已完成相关检测,但机台抵达客户现场后,仍需开展安装调试与工艺验证工作。该过程可能受客户产线适配、技术参数优化等因素影响,存在验证周期延长或验证结果不及预期的风险,公司将全力配合客户推进验收工作。同时,公司新产品机台仍需持续开展市场推广与多客户验证,未来亦存在市场拓展及客户开拓不及预期的风险。 一、本次出机情况及对公司影响 近日,公司第1,000台CMP装备正式出机并发往国内集成电路龙头企业,充分彰显公司产品与技术实力获得行业高度认可,进一步巩固了公司在国产CMP装备领域的龙头地位,持续体现国产高端半导体装备自主可控能力稳步提升。目前,公司CMP装备主力机型及新一代产品可全面适配集成电路、功率半导体、三维集成与先进封装、化合物半导体、新型显示、衬底材料等主流应用场景,已批量进入国内先进制程大生产线,部分核心技术指标超越国际先进水平。 当前,人工智能、高性能计算等领域快速发展,有力带动先进制程、先进封装及芯片堆叠等需求持续提升。CMP作为实现纳米级表面平整度控制的核心工艺,在先进逻辑、先进存储及先进封装等领域的应用场景与工艺需求不断拓展。公司依托在CMP领域积累的深厚技术与产业经验开展前瞻性布局,已形成覆盖关键工艺环节的成套解决方案,在产业升级与市场需求扩张的双重驱动下迎来新的发展机遇。 同时,公司依托在CMP装备领域积累的核心技术与产业化经验,持续将技术能力向更多关键工艺环节延伸拓展。目前公司已成功布局减薄装备、离子注入装备、划切装备、边缘抛光装备、湿法装备等高端半导体装备,不断完善关键工艺装备矩阵;并同步推进晶圆再生、关键耗材及维保服务等配套业务,构建起“装备+服务”的平台化发展格局,各业务板块间整体协同效应逐步凸显,为公司持续高质量发展提供了强劲动力。 未来,公司将依托多元化产品矩阵与一体化服务能力,为客户提供更高效、更全面的系统解决方案,一方面聚焦先进制程突破,围绕现有产品体系推进技术迭代,持续提升产品核心性能;另一方面紧跟HBM、CoWoS等先进封装技术发展趋势,加快产品革新与品类拓展,抢抓集成电路产业升级与国产替代机遇,进一步增强核心竞争力、提升市场份额。 二、相关风险提示 公司CMP装备在出厂前均已完成相关检测,但机台抵达客户现场后,仍需开展安装调试与工艺验证工作。该过程可能受客户产线适配、技术参数优化等因素影响,存在验证周期延长或验证结果不及预期的风险,公司将全力配合客户推进验收工作。同时,公司新产品机台仍需持续开展市场推广与多客户验证,未来亦存在市场拓展及客户开拓不及预期的风险。 敬请广大投资者注意投资风险。 特此公告 华海清科股份有限公司 董 事 会 2026年4月9日