本公司董事会及全体董事保证本公告内容不存在任何虚假记载、误导性陈述或者重大遗漏，并对其内容的真实性、准确性和完整性依法承担法律责任。
　　本公告所载拓荆科技股份有限公司（以下简称“公司”）2024年度主要财务数据为初步核算数据，未经会计师事务所审计，具体数据以公司2024年度的定期报告为准，提请投资者注意投资风险。
　　一、2024年度主要财务数据和指标
　　单位：人民币万元
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　　注：1、本报告期初数同法定披露的上年年末数。
　　2、根据公司2023年年度股东大会决议，公司以实施权益分派股权登记日（2024年6月7日）收盘后公司总股本扣减回购专用证券账户中的股份总数为基数，以资本公积向全体股东每股转增0.48股，前述资本公积转增股本实施完毕后，公司总股本增加至278,320,842股，扣减回购专用证券账户中股份1,267,894股后，股份总数为277,052,948股。公司按转增后的股数重新计算比较期间基本每股收益、归属于母公司所有者的每股净资产。
　　3、以上财务数据及指标以合并报表数据填列，但未经审计，最终结果以公司2024年年度报告为准。
　　二、经营业绩和财务状况情况说明
　　（一）报告期的经营情况、财务状况及影响经营业绩的主要因素
　　1、经营情况
　　2024年度公司实现营业收入410,345.39万元，同比增长51.70%；归属于母公司所有者的净利润68,845.83万元，同比增长3.91%；归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润35,645.51万元，同比增长14.20%。
　　2、财务状况
　　2024年末公司总资产1,531,435.23万元，与本报告期初相比增长53.61%；归属于母公司的所有者权益528,045.79万元，与本报告期初相比增长14.95%。
　　3、影响经营业绩的主要因素
　　面向国内集成电路行业快速发展带来的机遇，公司作为国内高端半导体设备领域的领军企业，继续专注于薄膜沉积设备和混合键合设备的自主研发与产业化，凭借在产品技术创新、客户资源、售后服务等方面的核心竞争优势，PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD及混合键合设备等系列产品量产规模不断扩大，持续获得客户订单，公司业务规模快速增长。
　　公司持续保持高强度的研发投入，坚持自主创新，在推进新产品研发、产品产业化和各产品系列迭代升级的过程中取得了重要成果，包括Flowable CVD设备、PECVD Bianca工艺设备、PE-ALD SiN工艺设备、HDPCVD FSG、HDPCVD STI工艺设备、键合套准精度量测设备等一系列新产品及新工艺经下游用户验证导入，实现了产业化。同时，新型设备平台PF-300M、PF-300T Plus及新型反应腔Supra-D ACHM、ONO Stack等工艺设备持续获得客户重复订单，实现大批量出货，进一步提升了公司产品性能及核心竞争力。
　　（二）上表中有关项目增减变动幅度达30%以上的主要原因说明
　　1、报告期内，营业收入同比增长51.70%，主要系市场需求持续增长，公司新产品及新工艺订单陆续实现收入转化，营业收入持续高速增长。
　　2、报告期末，总资产较期初增长53.61%，主要系在手订单增加，业务规模扩大，存货大幅增长。2024年度公司出货超过1,000个设备反应腔，创历史年度新高。
　　3、报告期末，股本较期初增长48.64%，主要系公司实施2023年度资本公积转增股本方案，以资本公积每股转增0.48股。
　　三、风险提示
　　本公告所载2024年度主要财务数据为初步核算的合并报表数据，未经会计师事务所审计，具体数据以公司2024年年度报告中披露的数据为准，敬请广大投资者注意投资风险。
　　特此公告。
　　拓荆科技股份有限公司董事会
　　2025年2月28日